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型号有FY-1500S、FY-2000S、FY-3000S三大系列,适用于6吋、8吋、12吋晶圆刻蚀,主要工艺为metal Etch,应用于半导体领域。
产品详情
单片刻蚀设备
- 满足SEMI S2、SEMI S8和CE标准;
- 结构合理紧凑,占地面积小;
- 配置ULPA FFU ,带CDS供液及回收系统, 自动补液配液(通常3种药液);
- Chamber内正面2~3个Dispenser 及一个Fix Nozzle, 背面带DI Nozzle;
- MTTR: 小于60min,MTBF: 最小500Hour;
- 配置离子发生器及高清摄像头;
- 4~24 个腔体。