CO2清洗系统

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CO2清洗系统介绍

大家好！无锡施罗森科技有限公司提供FPD
领域设备改造服务与专业代理最新设备，如：Heat Treatment System、TSP Equipment Solution、CO2
Cleaner、OLED Evaporation System、OLED Sputter、OLED CVD、 OLED Etcher、PECVD、ALD System等。CO2清洗技术已经被韩国三星、日本京瓷等客户所使用，受到广泛好评。详细资料请参考本公司网站产品信息内容。欢迎广大客户来电咨询。

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CO2 清洗系统简要介绍如下：

CO2 清洗系统通过喷嘴高速喷射干冰粉末粒子（-78.5℃）来清除表面的污染物，利用气体升华的工作原理，来完成表面清洁的干式清洗技术。以下为各种清洗工具及其特征：

CO2
Tank:

1.Purifier&
liquefier→CO2 snow T=-78.5℃ P=1 bar

Dry Ice Snow cleaning

清洗对象： Particles
& Organic films

使用范围：
Semiconductor, FPD, Precision cleaning

2.Pressing of CO2 snow T=-78.5℃ P=1 bar →Diameter
1～3mm
Length 1-10mm,Hardness 2-3 Mohs, CO2 Content 99.95%

Dry Ice pellet blasting

清洗对象： Rust,
Grease, Paint removal

使用范围：
Semiconductor, FPD Parts Industry process

3.Prevention
of static electricity Controlling Resistivity in DI water→

CO2 Anti-Static system

适用范围：FPD/Semiconductor ～用于防止Water Jet 带电

CO2相关产品及其特征：

Features:

1. Nozzle: Slit12mm, Round Ф4mm

2. CDA (or N2), CO2 , CO2 Control

3. Single hose type

Specification:

Cleaning media: CO2, CDA (or N2)

Application: 1. Precision module parts 2.Semiconductor parts etc.

LIQUIFIER & NOZZLES（液化器及喷嘴）

Specification:

LCO2 Gas Supply：0～0.55 kg/min(Average: 0.2 kg/min) 2.0.2

0.2 kg/min(=107 l/min) Continuous jet @40 kg, 830psi Cylinder

Use CO2 cylinder with Siphon tube inserted

CDA(or N2)： 200l/min @ 2～6kgf/cm²(Average 5 kgf/cm²)

Purifier& Liquefier
(Option) Standard Nozzle (Ф4mm)

Tubing: Urebrade (Poly Urethane) ½ⁿ
inch Hose

On/Off Solenoid (24V DC or 120VAC) activation

Filter(Option): 0.5 micron filter * 1 ea, 0.01 micron filter *1 ea

Purifier Filter,
lonizer (Option)

AVI检测设备端部 CO2 清洁作用

1. 端部CO2清洗-> Contact 的不良率显著降低

(1) 检测时良率显著增加 (Blade type, Film type)

(2) Probe Unit (Film type) 生产效率和良率增加（成本降低）

-> 韩国三星Samsung、日本京瓷KYOCERA从2012开始已经大规模使用

如有需要，请联系我们,谢谢。

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